上海
上海图双精密装备有限公司
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- 统一社会信用代码
- 91310118MA1JLQ9P38
- 法定代表人
- 钟敏
- 成立日期
- 2017-02-21
- 注册资本
- 2281.86万人民币
工商登记信息
- 统一社会信用代码
- 91310118MA1JLQ9P38
- 法定代表人
- 钟敏
- 登记状态
- 存续
- 成立日期
- 2017-02-21
- 注册资本
- 2281.86万人民币
- 实缴资本
- 2064.35万人民币
- 企业类型
- 有限责任公司(自然人投资或控股)
- 企业规模
- 小型
- 参保人数
- 85 人（2023 年报）
- 营业期限
- 2017-02-21 至 无固定期限
- 登记地区
- 上海市浦东新区
- 核准日期
- 2024-06-12
- 国标行业
- C 制造业 › 35 专用设备制造业 › 环保、邮政、社会公共服务及其他专用设备制造
- 注册号
- 310118003415033
- 英文名称
- Shanghai tushuang precision equipment Co., Ltd
- 注册地址
- 中国（上海）自由贸易试验区金海路955弄1号1层西侧
经营范围 （展开）
一般项目：半导体元器件专用设备制造；机械电气设备研发与设计；销售自产产品，从事电子科技、计算机软件科技领域内的技术服务、技术开发、技术转让、技术咨询；货物或技术进出口（国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外）。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
政府部门认定记录
- 国家级专精特新“小巨人”企业（2024 年，第六批）
- 省级专精特新中小企业（2021 年）
- 省级专精特新中小企业（2025 年，第一批）
- 省级创新型中小企业（2022 年）
- 高新技术企业（2024-12-04 发证，编号 GR202431000735）
- 高新技术企业（2021-11-18 发证，编号 GR202131002898）
- 高新技术企业（2018-11-27 发证，编号 GR201831002355）
以上为工商登记及政府部门公开的认定信息，可能存在更新延迟，请以国家企业信用信息公示系统及认定部门发布为准。本站不对企业进行信用评级。
融资历程 3 次
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B 未披露 2024-05-10 增资投资方：富越资本 北京盛世智达投资
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A 未披露 2023-01-16 增资投资方：国金鼎兴 海通开元 上海共正投资 上海产业知识产权 十月桐生投资 苏民投资 苏民开源无锡 海通开元
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天使轮 未披露 2020-08-28 增资投资方：磐石嘉岐、联想之星未来投资、同创锦绣、甚泰企业管理、上海共正投资、斐怀投资
融资事件来自公开投融资事件数据整理，金额以披露为准；自然人投资者不显示姓名。
股东与对外投资
主要股东 19
- 钟敏 49.1%
- 嘉兴图骏股权投资合伙企业(有限合伙) 49.0%
- 上海芯宏企业管理合伙企业(有限合伙) 6.4%
- 无锡先锋智造投资合伙企业(有限合伙) 6.0%
- 商海涵 5.7%
登录后查看全部 19 个股东
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来自 CSMAR 数据库及上市公司年报的最近一期数据；自然人股东只显示人数和合计持股比例。
财务概况
| 报告期 | 营业总收入 | 净利润 | 资产总额 | 研发投入 | 净资产收益率 | 收入增长 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 2023-12-31 | 2.10 亿 | 1921.2 万 | 3.38 亿 | — | 13.5% | -32.1% |
| 2022-12-31 | 4597.9 万 | 427.0 万 | 6609.5 万 | — | 12.5% | — |
| 2021-12-31 | 1.71 亿 | 1568.7 万 | 2.80 亿 | — | 17.6% | 68.7% |
| 2020-12-31 | 1.01 亿 | 851.6 万 | 2.16 亿 | — | 12.0% | — |
单位：元（人民币）；上市公司来自年度报告合并报表，其他企业来自 CSMAR 专精特新数据库；以企业公开披露为准，仅供参考。
专利 74 件
发明 30实用新型 43外观设计 1
2017
2018
2019
2020
2021
2022
- 一种上胶机构以及涂胶设备发明 · 申请号 202211475842.3 · 申请日 2022-11-23 · 公开号 CN115903390A
- 一种用于涂胶显影设备的全自动供液系统发明 · 申请号 202211420447.5 · 申请日 2022-11-14 · 公开号 CN115729058A
- 一种自动化晶圆涂胶机发明 · 申请号 202211112818.3 · 申请日 2022-09-14 · 公开号 CN115178435A
- 光刻机双光源曝光系统发明 · 申请号 202211031003.2 · 申请日 2022-08-26 · 公开号 CN115268235A
- 一种多尺寸兼容光刻机的传输系统发明 · 申请号 202210947214.4 · 申请日 2022-08-09 · 公开号 CN115309004A
来自 CSMAR 专精特新数据库，按申请号去重；列出最近 20 件。
主营业务
一般项目：半导体元器件专用设备制造；机械电气设备研发与设计；销售自产产品，从事电子科技、计算机软件科技领域内的技术服务、技术开发、技术转让、技术咨询；货物或技术进出口（国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外）。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
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